Resur FX Laser

Deze behandeling wordt toegepast bij:
-Fractional skin resurfacing
– Huidverjonging
– Huidverbeteringen
– Acné littekens
– Chirurgische/traumatische/brandwondlittekens
– Melasma (zwangerschapsmasker)
– Pigmentvlekken
– Rimpels
– Striae

Een behandeling met de Lumenis ResurFX Laser is een nieuwe, veilige manier om tot diep in de huidlagen door te dringen en daar een veranderingsproces aan te gaan. Het is een niet-ablatieve laser, wat betekent dat gedurende de behandeling de bovenste huidlaag geheel intact blijft. De fractionele laser ResurFX 1565 nm van Lumenis maakt gecontroleerd kleine gaatjes in de diepere lagen van de huid. Het laserlicht wordt geabsorbeerd door het water dat zich in de cellen bevindt. Deze cellen worden na de behandeling door de huid afgevoerd en opgeruimd. De huid is in staat om na dit proces zelf nieuwe collagene vezels aan te maken. Daardoor wordt de huid weer voller en sterker. Het stimuleert naast de collagene vezels ook de aanmaak van nieuwe bloedvaatjes. Een goede doorbloeding van de huid is belangrijk, omdat het zorgt dat er nieuwe huidcellen gevormd kunnen worden. Hierdoor kan de huid zichzelf snel herstellen en beschermen.

Met deze laser kun je diverse problemen aanpakken zoals littekens, acne, striae, verkleuringen,
Doordat de ResurFX beschikt over gepatenteerde CoolScan techniek en een razendsnelle scanner, biedt deze laser een full-face behandeling in nog geen 20 minuten. In tegenstelling tot andere technieken hoef je met de ResurFX slechts één keer over het te behandelen oppervlak gaan. Dit komt doordat de energiedichtheid vele malen hoger is. De CoolScan techniek zorgt ervoor dat de puntjes nooit direct naast elkaar worden geschoten zodat er geen kans op verbranding is.
Doordat de energie zo hoog is kan de laserstraal diep in de dermis doordringen om daar zijn werk te doen. Door collageen in de diepere huidlagen krijg je waanzinnige resultaten in slechts 1 tot 3 behandelingen. De behandeling zul je als prettig ervaren omdat de laser beschikt over contact koeling.